赫爾納供應(yīng)德國focus蒸發(fā)器EFM 3s

赫爾納供應(yīng)德國focus蒸發(fā)器EFM 3s

赫爾納貿(mào)易優(yōu)勢(shì)供應(yīng),德國總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品，為您提供一對(duì)一好的解決方案，貨期穩(wěn)定。

公司簡(jiǎn)介：

"聚焦"和"聚焦"電子公司作為公司和擁有者的德國公司正在合作。焦點(diǎn) 位于哈丁斯坦,距離法蘭克福機(jī)場(chǎng)僅30分鐘車程。聚焦電子 其設(shè)施位于工業(yè)化的東德核心之一萊比錫市。

focus蒸發(fā)器主要產(chǎn)品：

focus蒸發(fā)器

focus離子源

focus蒸發(fā)器產(chǎn)品型號(hào)：

EFM 3i

EFM 3s

EFM 4

focus蒸發(fā)器產(chǎn)品特點(diǎn)：

EFM3在 EFM3的基礎(chǔ)上增加了一個(gè)額外的電極。在 EFM 系列的產(chǎn)品中，蒸發(fā)束的一部分在加熱過程中被電子轟擊電離。這些離子被通量監(jiān)測(cè)電極捕獲。

focus蒸發(fā)器產(chǎn)品應(yīng)用：

focus蒸發(fā)器由于蒸發(fā)劑相對(duì)于接地樣品處于高電壓下，剩余的離子可能在基體表面產(chǎn)生缺陷并沉積能量。為了產(chǎn)生中性束，在 EFM3s 的抑制電極上施加一個(gè)額外的電壓。focus蒸發(fā)器附加電壓由 EVC 300或 EVC 100供電。

focus蒸發(fā)器EFM3i 是設(shè)計(jì)來促進(jìn)層層增長的情況下，它不會(huì)自然發(fā)生。它允許控制目標(biāo)材料的蒸發(fā)，并同時(shí)產(chǎn)生離子，造成額外的表面缺陷(離子束輔助沉積，IBAD)。focus蒸發(fā)器這些離子可以通過蒸發(fā)靶材的固有過程產(chǎn)生，也可以通過集成氣體入口的幫助從惰性氣體中產(chǎn)生。離子通過靜電透鏡聚焦到基片上。focus蒸發(fā)器這種聚焦透鏡可以調(diào)節(jié)目標(biāo)沉積區(qū)域內(nèi)離子與中性粒子的比例，從而誘導(dǎo)額外的缺陷密度。另外敏感的襯底材料可以通過排斥透鏡電壓來防止離子轟擊(參見 EFM3s)。用的 EVC 300i 電源不支持蒸發(fā)過程，還提供額外的透鏡電壓，包括一個(gè)樣品電流表。

focus蒸發(fā)器EFM4具有與 EFM3相同的特性，但是用于在直徑大約50毫米的襯底上沉積。三個(gè)不同的出口孔可以使蒸發(fā)面積準(zhǔn)確地適應(yīng)樣品的大小。通過選擇適當(dāng)?shù)嫩釄搴碗娮邮β?，可以?shí)現(xiàn)蒸發(fā)速率從每分鐘1/10單層到每秒1000多單層不等。focus蒸發(fā)器EFM 4適用于達(dá)700毫米3的坩堝容量。有效的水冷卻了低背景壓力(通常在10-10毫巴范圍內(nèi)) ，使在高蒸發(fā)溫度下長時(shí)間運(yùn)行。由于大的蒸發(fā)面積的目標(biāo)是運(yùn)行的 EFM4與 EVC300電源是合適的配置。

focus蒸發(fā)器基于 EFM3蒸發(fā)器的設(shè)計(jì)理念，三重蒸發(fā)器 EFM3T 具有三個(gè)獨(dú)立的單元，用于蒸發(fā)來自電線、電桿或坩堝的各種材料。focus蒸發(fā)器這三個(gè)單獨(dú)的電池在距離出口孔約93毫米處(距安裝法蘭254毫米)有交叉梁，以蒸發(fā)區(qū)域的大重疊。每個(gè)電池配備有單獨(dú)的燈絲和高壓電源，以防止串?dāng)_。三個(gè)獨(dú)立的通量監(jiān)測(cè)器能夠控制化合物的化學(xué)計(jì)量生長。整體多位置快門使劑量和同時(shí)或連續(xù)蒸發(fā)產(chǎn)生例如格子或多層。focus蒸發(fā)器通過可選的快門機(jī)動(dòng)化和 PC 軟件工具 Multi Epitass 完成。沉積區(qū)域由三個(gè)孔中的一個(gè)孔的選擇決定。三個(gè)蒸發(fā)目標(biāo)是獨(dú)立地安裝在三個(gè)25毫米 Z 偏移對(duì)準(zhǔn)。這一功能允許蒸發(fā)棒與多口袋儀器。focus蒸發(fā)器目標(biāo)材料可以很容易地從后方(3xNW16CF)填充。一個(gè)電源可以順序地操作所有三個(gè)單元。在共同蒸發(fā)的情況下，每種材料都需要一個(gè)單獨(dú)的電源。